ASML供应商称中国在顶级芯片制造工具方面落后15年

德国蔡司集团的一位高层主管说，中国在研发尖端芯片制造工具方面落后大约15年。蔡司半导体部门负责人弗兰克·罗蒙德在彭博电视上表示，北京将需要15年时间来研发极紫外（EUV）光刻机是一个 “合理的假设”，同时指出该国的进展难以量化。

根据罗蒙德的说法，任何将出口管制扩大到包括传统DUV的计划都将对商业不利。“我们不认为这些出口限制会产生积极影响，因为它加速了中国的创新，”他说。罗蒙德表示，北京在这方面技术已经研究了数十年。在谈及近期进展的报道时，他说：“这确实并不令人意外，现在我们需要看看这些工具的实际能力到底如何。我们仍然遥遥领先。”

—— 彭博社