路透社报道,在前 ASML 工程师的帮助下中国科学家研制出极紫外光刻机(Extreme Ultra-violet 或 EUV)原型。原型机于 2025 年初完成制造,尚未开始制造工作芯片,政府的目标是在 2028 年制造工作芯片,但更现实的目标可能是 2030 年。荷兰 ASML 公司垄断了 EUV 光刻机市场,在此之前它是唯一一家能制造 EUV 光刻机的公司。
https://en.wikipedia.org/wiki/Extreme_ultraviolet_lithography
https://www.reuters.com/world/china/how-china-built-its-manhattan-project-rival-west-ai-chips-2025-12-17/